Создание многокомпонентных газовых смесей для ионно-плазменных технологий

Abstract

Рассмотрен вопрос создания многокомпонентных газовых смесей (ГС), предназначенных для получения покрытий сложного состава в ионно-плазменных установках. Разработаны методы получения смесей газов, основанные на последовательной подаче порций газовых компонентов в смесительную камеру и обеспечивающие заданный состав смеси с высокой точностью. Для реализации методов разработаны алгоритмы и на их основе микропроцессорная система управления созданного генератора газовых смесей. Разработанный генератор обеспечивает подготовку смесей из трех газов с возможностью изменения процентного содержания каждого газа в диапазоне 0…100% с шагом задания содержания компонента 1% и погрешностью не более 0,1% по каждому газу.

Розглянуто питання створення багатокомпонентних газових сумішей (ГС), призначених для отримання покриттів в іонно-плазмових установках. Розроблені методи отримання ГС, засновані на послідовній подачі порцій газових компонентів у змішувальну камеру, що забезпечують заданий склад суміші з високою точністю. Для реалізації методів розроблені алгоритми і на їх основі створено мікропроцесорну систему керування створеного генератора сумішей газів. Розроблений генератор забезпечує підготовку сумішей з трьох газів з можливістю зміни процентного вмісту кожного газу в діапазоні 0…100% з кроком завдання змісту компонента 1% і похибкою не більше 0,1% з кожного газу.

А considered question is multicomponent gas mixtures creation for production of complex composition coatings in ion-plasma technologies. The developed methods for producing gas mixtures are based on a serial supply of gas component portions into the mixing chamber which providing a predetermined mixture composition with high accuracy. For methods implementation has been developed algorithms and software for microprocessor control system of created gas mixtures generator. This generator provides training three gases mixture with changeability of each gas percentage in range from 0 to 100%, with working step of 1% component content and error isn't more 0.1% for each gas.