The dependence of ionization frequency in a stationary radio-frequency microdischarge on plasma density and DC voltage applied to the discharge plasma is found. Calculation is fulfilled for a plane geometry in assumption of uniformity of radio-frequency electric field.
Розрахована залежність частоти іонізації в стаціонарному високочастотному мікророзряді від концентрації плазми і постійної напруги, прикладеної до плазми розряду. Розрахунок виконаний для плоскої геометрії в припущенні однорідності високочастотного поля.
Рассчитана зависимость частоты ионизации в стационарном высокочастотном микроразряде от концентрации плазмы и постоянного напряжения, приложенного к плазме разряда. Расчет выполнен для плоской геометрии в предположении однородности высокочастотного поля.