В статье рассмотрены алгоритмы конвертации топологических данных из форматов САПР в формат Т29 (формат установок автоматического контроля топологических структур на фотошаблонах производства УП «КБТЭМ-ОМО»), который напрямую не поддерживается современными САПР. Особенность таких данных – большой объем данных и, следовательно, время конвертации. Использование параллельных методов вычислений на базе ПЭВМ с многоядерным процессором и технологии OpenMP позволяет значительно ускорить время обработки данных.
У статті розглянуті алгоритми конвертації топологічних даних з форматів САПР у формат Т29 (формат установок автоматичного контролю топологічних структур на фотошаблонах виробництва УП «КБТЕМ-ОМО»), який прямо не підтримується сучасними САПР. Особливість таких даних – великий обсяг даних і, відповідно, час конвертації. Використання паралельних методів обчислень на базі ПЕОМ з багатоядерним процесором і технології OpenMP дозволяє значно прискорити час обробки даних.
In this paper, we propose algorithms and software for parallel implementation of conversion of VLSI Layout Data from CAD format Gerber and MEBES into an internal representation and then into format of automatic mask inspection system T29. The software is developed on basis of OpenMP technology to work on PC with 4-core processor. It is shown that using parallel computing speeds up a conversion process. In the future we are planning to develop similar tools for data conversion from CIF and DFX formats into the internal format, and further into format GDS-II. These tools allow developing a program complex of topological data processing to work with automatic mask inspection system made by R&D Company “KBTEM-OMO” of “Planar” Corporation.