Импульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2003
→
Вопросы атомной науки и техники, 2003, № 4
→
Переглянути статтю

Импульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью

Юферов, В.Б. ; Скибенко, Е.И. ; Сороковой, Л.Г. ; Рыбалко, А.Н. ; Ткачев, В.И. ; Косик, Н.А. ; Буравилов, И.В. ; Пономарев, А.Н. ; Лукин, К.А. ; Онищенко, И.Н.

Тема: Приложения и технологии

УДК: 533.9

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111234

Посилання: Импульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью / В.Б. Юферов, Е.И. Скибенко, Л.Г. Сороковой, А.Н. Рыбалко, В.И. Ткачев, Н.А. Косик, И.В. Буравилов, А.Н. Пономарев, К.А. Лукин, И.Н. Онищенко // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 319-322. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Дата: 2003

Завантажень: 308

Импульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью

Анотація:

Проводились эксперименты по разработке плазменного импульсного катода с большой эмитирующей поверхностью. Он создавался с помощью набора параллельно работающих многозазорных плазменных пушек. С помощью 8 мм интерферометра определена динамика плотности плазмы.

Показати повний запис статті