Перегляд за автором "Van Wassenhove, G."

Сортувати за: Порядок: Результатів:

  • Lyssoivan, A.; Koch, R.; Van Eester, D.; Van Schoor, M.; Van Wassenhove, G.; Vervier, M.; Weynants, R.; Buermans, J.; Matthys, T.; Esser, H.G.; Marchuk, O.; Neubauer, O.; Philipps, V.; Sergienko, G.; Bobkov, V.; Fahrbach, H.-U.; Hartmann, D.A.; Herrmann, A.; Noterdaeme, J.-M.; Rohde, V.; Beaumont, B.; Gauthier, E.; Glazunov, G.P.; Lozin, A.V.; Moiseenko, V.E.; Nazarov, N.I.; Shvets, O.M.; Stepanov, K.N.; Volkov, E.D.; Beigman, I.L.; Vainshtein, L.A. (Вопросы атомной науки и техники, 2007)
    The ICRF plasma production technique is considered as a promising alternative tool for the following applications in the present and next generation superconducting fusion devices: (i) Wall conditioning in the presence of ...